摘要：采用電弧離子鍍(AIP)在Ti-6.48Al-0.99Mo-0.91Fe (質量分數,%)鈦合金表面制備Ta-10W (質量分數,%)涂層。通過真空熱處理試驗、X射線衍射分析(XRD)、掃描電鏡(SEM)與能譜(EDS)分析、透射電鏡(TEM)分析、電子探針分析(EPMA)等方法,研究純熱暴露下Ta-W涂層/鈦合金體系的相組成、顯微組織形貌、元素分布、界面行為等,評估了體系熱穩定性能。結果表明:純熱暴露過程中,Ta-W涂層相組成無明顯變化,均由多晶α-Ta(W)組成,其平均晶粒尺寸由沉積態的46 nm小幅增至750℃時的49 nm和950℃時的51 nm,涂層表現出良好的相穩定性;由于元素Ta、Ti在Ta-Ti體系中擴散系數的差異及難熔金屬元素Ta、W良好的穩定性,Ta-W涂層/鈦合金體系呈現出良好的界面及元素穩定性:涂層中元素Ta、W始終維持在接近沉積態含量水平,無快速擴散、固溶于基體而失效的行為,體系僅在界面形成互擴散層,無空洞、裂紋缺陷和金屬間化合物的形成;由于元素互擴散的加劇及涂層元素在α-Ti、β-Ti中的固溶度差異,鈦合金基體同素異晶轉變溫度(ATT)對體系界面和元素穩定性影響明顯;純熱暴露過程中,Ta-W涂層有效厚度保持穩定、無明顯變化?；贔ick定律,獲得550、750和950℃時互擴散層厚度與時間的關系式。