BF_2~+離子注入時磷雜質離子污染控制的研究
作者：彭坤 林大成 昆明理工大學機電學院 中芯國際集成電路制造有限公司（天津） 昆明 中芯國際集成電路制造有限公司（天津）
摘要：同一臺離子注入機B,P離子交叉注入,殘留的磷和BF3分解產生的F生成50PF+,成為難控隱患。研究指出,實際注入晶圓的平均質量數,呈以目標離子質量數為中心的正態分布;49BF2+與50PF+因質量數接近而存在可能的重疊分布區,這是出現磷污染的原因;指出改善質量分析器的控制精度,可在線調控以避免磷污染。通過比較發現,當質量分析器設定為49±0.5且注入高束流達800μA時,離子注入機不能偵測到臨近目標質量數的雜質離子。離子注入機經80 h注入31P+后再交叉注入的老化實驗準備,當引弧電流達3 100μA時,電性測試發現,質量分析器設定為49±0.3(質量分辨率m/Δm=169.3)的樣品無磷污染。進一步研究了多重老化因素疊加效應,經同樣的老化實驗準備、引弧電流為3 100μA且注入束流為800μA時,注入劑量為2.2×1015的49BF2+,當質量分析器嚴控為49±0.3,經SI MS(secondaryion mass spectroscopy)分析二個樣品均未發現磷的高能峰。改進質量分析器控制設定數值的解決方案經生產驗證有效,無需Frederic Sahores(2002 IEEE)的如增加清洗頻率或分離子...
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