一種ZIF-8/有機硅雜化膜的制備及性能研究
作者：嚴浩軍; 張帥; 杜紅斌; 趙亞云; 張秋菊; 林貽超; 孔春龍 寧波市電力設計院有限公司; 寧波315200; 中國科學院寧波材料技術與工程研究院; 寧波315201
摘要：常規ZIF-8膜制備方式主要是原位合成法、晶種二次法等,但是在膜制備過程中都存在一定的缺陷,主要是由于水熱合成存在溶劑熱以及膜層與無機材料表面之間結合能力差等原因.以有機硅為膜基底,摻雜ZIF-8填充劑,采用兩步法制備了穩定且具有較高氣體分離性能的ZIF-8/有機硅雜化膜,通過掃描電鏡(SEM)、粉末衍射(PXRD)等對不同ZIF-8摻雜比例制備的膜進行了分析表征,并考察了其對膜氣體分離性能的影響.結果發現,經兩步浸漬提拉后,膜表面均勻致密、無裂痕缺陷.當有機硅與ZIF-8質量比1∶1時,雜化膜的性能更為優異,H2/CH4在150℃時理想選擇性系數為47.6,H2∶CH4(1∶1)混合氣的分離因子為34.5.
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