摘要：在石墨烯或其異質結中引入帶隙是石墨烯能帶工程研究的重要課題。借助合金化的方法在石墨烯和鍺[Ge(110)]襯底之間成功插入二維Mn-Ge合金島,并對此異質結構開展微觀原子結構及低能電子激發的掃描隧道顯微學研究。在不同石墨烯覆蓋度的樣品中,發現了一維納米線和二維平板合金島插層,在缺乏石墨烯保護的合金表面,二維合金島可以恢復三維生長。Mn-Ge合金納米線和二維島插層使石墨烯分別打開了400meV和200meV的能隙,為改變石墨烯的能帶結構提供了可行的方法。