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摘要:采用自主研發的大弧源技術,復合中頻磁控濺射石墨靶,避免H元素的引入,在鋯合金表面快速沉積了致密、超厚(約20μm)的Ti-Al-C涂層.經過不同溫度(550、650、750和850℃)和時間(1、2和3 h)的真空退火后發現,至少在650℃才能獲得Ti2AlC結構,更高的溫度會加速Ti2AlC的生成.高溫沉積對制備Ti2AlC相涂層而言是必備的.
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國際刊號:1004-227X
國內刊號:44-1237/TS
國際刊號:1001-3814
國內刊號:61-1133/TG
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